蚀刻曝光

     液体光致抗蚀剂的感光有效波长为300um～400mum，因此用于干膜曝光的设备亦可用于湿膜曝光，曝光能最100MJ／cm2～300MJ／cm2。因烘烤后的硬度还不足1H，因此在曝光定位时需特别小心，以防划伤。虽然湿膜适用的曝光量范围较宽，但为了增加膜层的抗蚀和抗电镀能力，以取高限曝光为宜。其感光速度与干膜相比要慢得多，所以要使用高功率曝光机。当曝光过度时，正像导线图形易形成散光侧蚀，造成线宽减少，反之负像导线图形形成散光扩大，线宽增加，当曝光不足时，膜层上出现针孔、砂眼等缺陷。