蚀刻显影

   显影使用1％的Na0H溶液，韫度20℃～25℃。湿膜显影所使用碱度和温度都比干膜低，因为显影温度和浓度高会破坏胶膜的表面硬度和耐化学性。因此湿膜适宜用较低的温度和浓度进行显影。
    经涂覆干燥后的板子应尽快进行曝光显影处理，不易长时间放置以防止感光树酯的自然聚合，在安全灯及室温环境内放置时间以不超过一个工作日为度。超过这个时间应退掉感光胶膜重新进行涂覆。经湿膜法制作的图文基本不需要进行修版工作。
    去膜方式和干膜去膜相同，在此亦不重复。
    用液体光致抗剂不仅提高了制作的精度和合格率，而且降低了生产成本，无需对原有设备进行更新和改造，操作工艺也易于掌握。但溶体光致抗蚀刻的同形成分只有70％左右，其余部分大都为助剂、溶剂、引发剂等。这些溶剂的挥发在一定程度上对环境带来一定污染，对操作人员造成一定危害，所以在操作巾需要有较好的通风设施，并穿戴必要的防护用品。