蚀刻显影与停影

显影
     显影是用5‰～12‰的Na2CO3，溶液，显影温度30℃-40℃。显影机理是感光膜中未感光部分的活性基团与稀碱溶液反应生成可溶性物质而溶解下来，显影时活性基团羧基一COOH与Na2CO3反应，生成亲水性基团一COONa，从而把未曝光的部分溶解下来，而曝光部分的干膜不被溶解。
    掌握正确的娃影时间对保证显影质量至关重要，如果显影时间不足，未聚合的光致抗蚀剂得不到充分的清洁显影，未感光的抗蚀剂残胶可能会留在金属表面，造成蚀刻和电镀后的图形失真。如果显影时间过度，已聚合的光致抗蚀膜由于与显影液接触时间过长，而发毛、失去光泽，在蚀刻和电镀过程中容量产生图形边缘抗蚀膜起层或脱落。正确的显影时间主要根据干膜提供的数据再经多次实验来确定，显影液配方及操作方法觅表3—9。
停影
    显影并经水洗后即可放在稀酸中停影，停影的目的是用酸中和掉版面的残余碱液。以防止过显现象的发生。停影配方及操作条件见表3一10。