蚀刻干膜显影性及耐显影性

     (1)显影性：干膜的显影性是指下膜按最佳工作状态贴膜、曝光及显影后所获得图文效果的好坏，即图文应是清晰的，未曝光部分的感光胶层应去除干净无残胶。曝光后留在金属板面上的抗蚀层应光滑、坚实。
    (2)耐显影牲：十膜的耐显影性是指曝光的干膜耐过显影的程度，即显影时间可以超过的最大限度，耐显影性反映了显影工艺宽容度。
    干膜的显影性与耐显影性直接影响到图文的转移质量。显影不良的干膜会给蚀刻带来困难。干膜的耐显影性不良，在过度显影时，会产生干膜脱落或边缘起层等质量故障，卜述缺陷严重时，将直接导致生产不能正常进行。对干膜的显影性和耐显影性技术要求见表3-8，