蚀刻干膜去膜性能

      曝光后的干膜，经蚀刻或电镀后，可以在强碱溶液中除去。一般采用3％～5％的NaOH溶液，除膜韫度50℃～60℃，以机械喷淋或浸泡方式去除。去膜速度越快越有利于提高生产效率，去膜形式最好是呈片状剥离，剥离下来的碎片通过过滤网除去，这样既有利于延长去膜溶液的使用寿命也可以减少对喷嘴的堵塞。经聚合后的干膜用乙醇和丙酮也能很好去除，这对于铝合金表面光致抗蚀膜的去除非常有利，因为铝是两性金属如果用强碱去膜会对铝表面产生腐蚀，影响美观。
    干膜技术要求规定：在3％～5％的NaOH溶液中，湿度50℃～70℃，一级指标去膜时间为30s一75s，二级指标去膜时间为60s～150s，去膜后表面无残胶。