酸性氯化铜蚀刻剂

这种蚀刻剂以氯化铜(CuCl2·2H2O)为基础,加入盐酸及其它可溶性氯化物配制,它适用于丝网漏印印料、干膜、金和锡—镍合金为抗蚀层的印制板的生产。

表8-2 酸性氯化铜蚀刻剂组成(国外配方)
 

 

1

2

3

4

氯化铜(CuCl2·2H2O

170 g

0.58mol

0.58mol

0.130.66mol

盐酸(HCl

0.6 l

8mol

0.13mol

0.050.15mol

氯化钠(NaCl

 

1.06mol

0.8mol

 

氯化铵(NH4Cl

 

 

 

0.130.63mol

表 8-3 酸性氯化铜蚀刻剂的组成(国内配方)
 

 

1

2

3

4

氯化铜(CuCl2·2H2O(g/l)

350500

100

170500

200

盐酸(ml/l

8.0100

 

 

100

氯化钠(NaCl(g/l)

 

46

 

200

氯化铵(NH4Cl

 

 

饱和