碱性氯化铜蚀刻液-2
3. 蚀刻液配方 蚀刻液配方有多种,1979年版的印制电路手册(Printed Circuits Handbook)中介绍的配方见表10-4。 表10-4 国外介绍的碱性蚀刻液配方
国内目前大多采用下列配方: CuCl2·2H2O 100~150g/l 、NH4Cl 100g/l 、NH3·H2O 670~700ml/12 配制后溶液PH值在9.6左右。溶液中各组份的作用如下: NH3·H2O的作用是作为络合剂,使铜保持在溶液里。 NH4Cl的作用是能提高蚀刻速率、溶铜能力和溶液的稳定性。 (NH4)3PO4的作用是能保持抗蚀镀层及孔内清洁。 |