铜的概况及蚀刻特点

    铜在很早以前就已经被人类所发现和应用。可以说是人类最早使用的金属之一。铜和它的合金青铜、黄铜等由于有光泽、抗蚀能力强和容易加工等性质，在古代有相当长的一段历史时期用于制造武器。同时也大量用于制造货币、器皿以及用于雕刻和建筑等近代，特别是电的广泛应用以后，由于铜的优良导电与延展性能，所以它被广泛应用于日力、电器、电子技术业。同时也被大量应用于机槭工业，工艺美术作品、铭牌、匾额等各个领域。铜中加入某些元豢后，能显著改善铜的性能，目前已经制成了上下种铜合金。
    铜在金属活动顺序表中排在标准参考电极氢的后面。使铜不能被酸中H+所氧化，铜也不能将H+置换生戒H2，这就使铜的化学性质比较稳定。但铜易易硫化物反应，即使在嗣表面已形成氧化膜，同样会被硫化物腐蚀。铜在氧化性酸中腐蚀速度较快，在强碱溶液

    铜在不含有氧或氧化物的盐酸溶液中，腐蚀速度很慢，但如在盐酸溶液中通人氧气或添加一些氧化性物质，则有较快的蚀刻速度：
2Cu+4HC|+02一：2CuCIz+2H20
Cu十H202+2HCl—CuCl2+2H20
    铜及合金化学蚀刻的应用范围较广，主要包括以下几方面；电路板的蚀刻加工、铜镀金名片、工艺品的加工、铜合金弹簧片及接触片等。在机电行业中的某些仪表部件等也常采用化学蚀刻加工技术来完成。
    关于铜的蚀刻可分为酸性蚀刻和碱性蚀刻两种。酸性蚀刻主要包括：FeCI，蚀刻液、酸性cucl2蚀刻液、H2SO4一H202蚀刻液等；碱性蚀刻液目前只有一种碱性CuCl，蚀刻液。本节将详细介绍这几种蚀刻液的配制及制相关内容。